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機械設(shè)備
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它表征儀器分辨M和M+AM兩個相鄰峰的能力，通常用M/AM表示。由于作為殘氣分析的真空質(zhì)譜計不需要很高分辨本領(lǐng)，所以，通常在10%或50%峰高處確定參考基線來測量AMo特殊使用條件下，可在5%或1%峰高處確定參考基線來測量...
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1.質(zhì)譜儀由分析場將離子束分離成不同質(zhì)荷比的組分，并在整個立體角上同時記錄各種質(zhì)荷比離子的儀器。2.質(zhì)譜計借助于改變分析場的工作參數(shù)來記錄質(zhì)譜的儀器，即，質(zhì)譜的記錄利用了時間因素。此外，這類儀器的質(zhì)譜記錄...
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分壓力靈敏度是衡量質(zhì)譜計探頭部分檢測靈敏度的指標(biāo)。與熱陰極電離規(guī)相似，分壓力靈敏度常數(shù)定義為式△AI+——被檢測的某一種氣體組分離子流的變化量[A];APp——離子源內(nèi)該種組分的分壓力變化...
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質(zhì)譜計在一定的靈敏度和分辨本領(lǐng)條件下，能夠工作的質(zhì)量數(shù)上限和下限之間的范圍。質(zhì)量數(shù)下限通常用真空系統(tǒng)殘余氣體峰(如原子態(tài)氫離子峰)質(zhì)量數(shù)為1來確定。上限可以用氣體相對分子量接近上限的氣體測定(如選用氪、...
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z*小可檢分壓力反映質(zhì)譜計探頭的分壓力靈敏度和測量儀器檢測離子流信號的綜合指標(biāo)。對于規(guī)定的氣體的z*小可檢分壓力是檢測一個等于兩倍噪聲的離子流輸出信號(即信噪比為2)。
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質(zhì)譜計在不同應(yīng)用條件下允許工作的z*大全壓力極限。一般這項指標(biāo)是對質(zhì)量數(shù)28的氮峰測定的。在定性分析中，z*大工作壓力通常定義為，在該壓力下儀器的分壓靈敏度下降到線性值的一半，或定義為J十-p曲線中z*大J+值對...
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真空系統(tǒng)中漏氣流量的平衡表示式如下式中p-系統(tǒng)達(dá)到的壓力;Po-真空泵的極限壓力;S-系統(tǒng)的有效抽速;Qo-由系統(tǒng)外部流向系統(tǒng)內(nèi)部的總漏率;EQi——虛漏所形成的總“漏”率。所謂虛漏，其來源是多...
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表征儀器對氣體混合物中所能測量的某一組分的z*小值。通常用Pz*小/P全表示，這里，Pz*小為氣體混合物中某一組分的z*小分壓力，P全為氣體混合物的全壓力。
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對于大多數(shù)真空系統(tǒng)、容器、器件來說，如果真空抽不上去，s*先應(yīng)判斷漏氣是不是主要因素，然后確定是否需要進(jìn)行檢漏。真空檢漏就是用一定的手段將示漏物質(zhì)加到被檢工件的器壁的某一側(cè)，用儀器或某一方法在另一側(cè)懷疑...
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真空系統(tǒng)或真空容器的漏氣是絕對的，不渦氣是相對的。真空檢漏技術(shù)中所指的“漏”的概念，是和z*大允許漏率的概念聯(lián)系在一起的。對于動態(tài)真空系統(tǒng)來說，只要真空系統(tǒng)的平衡壓力能達(dá)到所要求的真空度，這時...
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真空容器或器件中的漏孔形式大致有以下幾種：①細(xì)圓管狀;②斷面復(fù)雜的管狀;③隙縫;④連在一起的多孑L組織;⑤由細(xì)管或隙縫把空穴連接起來的組合結(jié)構(gòu)。圖13-1給出幾種漏孔的實例。
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真空技術(shù)中所指的漏孔由于尺寸微小、形狀復(fù)雜，無法用幾何尺寸來表示其大小，所以一般用等效流導(dǎo)或者漏氣速率(簡稱“漏率”)來表示其大小。用漏率來表示漏孔的大小時，如果不加特別說明，則是指在標(biāo)準(zhǔn)條件...
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真空技術(shù)中所講的漏孔是指當(dāng)封閉的容器內(nèi)部與外部的氣體壓力或濃度不同時，可以使氣體由器壁的一側(cè)泄漏到另一側(cè)去的小孔、缺陷或隙縫以及滲透元件或漏氣裝置。z*容易產(chǎn)生漏孔的情況是：各種焊接和封接存在缺陷;器壁...
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氣體通過圓管狀漏孔的平均速度。當(dāng)漏孔直徑矗d=5μm，長度L=0.5cm，p=100kPa時，QA≈l0^-3Pa·L/s，=70cm/s，因此氣體通過該漏孔的時間近似等于7×10^-3S。由此可見，檢漏時氣體通過漏孔的時間一般來...
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漏率也叫漏氣速率，系指處于高壓力或高濃度下的氣體，在單位時間內(nèi)通過漏孔流向低氣壓端(或低濃度端)的氣體量。表示漏率單位的量綱是[壓力]·[體積]/[時間]。常用的漏率單位是Pa·L/s。
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