卷繞式真空鍍膜機(jī)能夠沉積的鍍膜層厚度范圍為0.01-0.2μm，可以在這個(gè)范圍內(nèi)選擇，有的還可以鍍多層膜，滿足多種需要。日本專利提出沉積兩種不同鍍膜材料的卷繞式蒸鍍裝置。該裝置的真空室(6)分為上室(7)，左下室(8)和右下室(9)。蒸鍍時(shí)，兩組蒸發(fā)源(19、23)蒸發(fā)的鍍膜材料(21、25)分別沉積在塑料薄膜(11)上，在塑料薄膜沒有蒸鍍的一側(cè)，裝上輝光放電發(fā)生器(、16)。發(fā)生器產(chǎn)生的輝光放電氣體能防止塑料薄膜起皺。使用這套裝置可以在極薄的塑料薄膜上鍍上無折皺的多層膜，用于制磁帶和薄膜太陽能電池等。該裝置示意圖見圖1
圖1改進(jìn)的卷繞式蒸鍍裝置
近年來，高速低溫濺射法發(fā)展很快，使高熔點(diǎn)金屬如鉻、鈦、鎢、鉬等的沉積成膜成為可能。鍍膜室直徑1400mm，高2200mm的大型鐘罩式濺射鍍膜機(jī)和長mm，寬7.6mm的大型串列式濺射鍍膜機(jī)已投入使用。最近，日本專利提出一種卷繞式濺射鍍膜機(jī)，該機(jī)可鍍兩種不向的鍍膜材料，并在濺射區(qū)和第二濺射區(qū)之間裝溫度控制裝置()，加強(qiáng)對(duì)基材的冷卻，保證在鍍膜層較厚和沉積速度較快的情況下，基材不會(huì)發(fā)生卷縮和變形。該裝置示意圖見圖1。真空室(1)裝有濺射靶(4a,4b)和陽極(14a,14b)，兩個(gè)靶分別與直流電源(5a,5b)相接，對(duì)塑料薄膜(8)進(jìn)行濺射。輥筒(11a,11b,11c))有各自的冷卻溫度。