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如何解決高功率激光焊接離焦量問題
發(fā)布時(shí)間:2019-04-15 12:06:06 | 人感興趣 | 評分:3 | 收藏:

  在激光焊接領(lǐng)域,隨著高功率光纖激光器碟片激光器的引入,機(jī)遇和挑戰(zhàn)以有史以來最快的速度在迅速地增長。最值得注意的是,更高激光功率和光束質(zhì)量使其應(yīng)用范圍有機(jī)會擴(kuò)展到更深的激光深熔焊接,這也為激光聚焦光學(xué)組件帶來了一個(gè)全新的挑戰(zhàn)。

  具體來說,聚焦光學(xué)組件面對的挑戰(zhàn)或者說障礙被稱為“離焦量(focal shift)”,對這一問題的描述早在十年前就由Dirk Lange提出。該研究對離焦量進(jìn)行了定義和量化(在YAG功率不超過3kW時(shí)為1 mm/kW)。巧合的是,在同一時(shí)期,EWI在一項(xiàng)涉及光束耦合器應(yīng)用中觀察到在4kW光纖激光功率時(shí)也有類似的現(xiàn)象。但EWI在開始10kW功率的光纖激光焊接試驗(yàn)時(shí)才觀察到離焦量對激光焊接造成的實(shí)際影響。

  控制和管理離焦量

  激光焊接過程中離焦量的產(chǎn)生過程如圖1所示。為了便于討論,我們假設(shè)具有非常低的吸收率的透鏡和一個(gè)保護(hù)蓋片的1微米聚焦光學(xué)組件在非常潔凈的情況下開始傳輸。不幸的是,這種情況在生產(chǎn)環(huán)境中是很少存在的。有時(shí)在焊接時(shí)(或之前),煙塵、蒸汽、油、飛濺物或其他形式的污染物會在最近的光學(xué)表面上發(fā)現(xiàn)——保護(hù)玻璃窗口。這種污染會使得窗口局部過熱,產(chǎn)生熱變形和窗口折射率的變化。這個(gè)結(jié)果會導(dǎo)致焦點(diǎn)遠(yuǎn)離工作面而向光學(xué)組件移動,從而產(chǎn)生更多污染和焊接熔深的損失。

圖1:激光焊接中離焦量的發(fā)生。

  有很多關(guān)于控制和管理離焦量的解決方案。首先,最常見的是氣刀,這實(shí)際是一種高速、橫向的清潔的氣流或其他氣體,旨在保護(hù)最末的光學(xué)表面免受污染。有許多種不同的氣刀(也被稱為“窗口保護(hù)”裝置)被用來解決離焦量問題。其中有些設(shè)備使用了散射光監(jiān)控解決方案來檢測污染何時(shí)開始,并希望以此能在產(chǎn)生不良焊縫之前暫停焊接過程。不幸的是,目前還沒有人能制作出一種完全有效的窗口保護(hù)裝置,并且過程中的污染并不是讓透射聚焦光學(xué)組件發(fā)生熱移位的原因。

  聚焦光學(xué)組件的替代方案

  面對這一現(xiàn)實(shí),EWI開始研究激光聚焦光學(xué)組件的替代方案,設(shè)計(jì)準(zhǔn)則如下:

  ● 盡可能多地減少光學(xué)傳輸裝置;

  ● 使用熱穩(wěn)定性較好的光學(xué)傳輸裝置;

  ● 在可能的情況下使用金屬反射鏡;

  ● 提供更好的光學(xué)冷卻;

  ● 放置最末的光學(xué)表面時(shí)使其遠(yuǎn)離工作面。

  依據(jù)這些準(zhǔn)則,EWI制作出一種“復(fù)合式”聚焦光學(xué)組件,綽號叫“bazooka(火箭筒)”(圖2),該組件集合了多種創(chuàng)新的功能。首先,激光光纖發(fā)散光束的準(zhǔn)直是用經(jīng)過金剛石切削處理的硫化鋅材料透鏡完成的,這種材料的熱導(dǎo)率是傳統(tǒng)的光學(xué)傳輸材料石英玻璃的20倍。對這種材料進(jìn)行金剛石車削(DT)意味著可以在凸面得到理論上完美的透鏡面形。其次,這個(gè)透鏡的平面一側(cè)通過與另一個(gè)DT表面(水冷透鏡支架)直接接觸來冷卻。這樣的DT面與DT面接觸能產(chǎn)生極其高效的熱傳遞,從而讓準(zhǔn)直透鏡保持冷卻。

圖2:“Bazooka(火箭筒)”復(fù)合式激光聚焦光學(xué)組件。

  “火箭筒”的準(zhǔn)直光束的聚焦是用標(biāo)準(zhǔn)的離軸、水冷拋物面鏡完成的,這種拋物面鏡幾十年來通常用于高功率CO2激光焊接系統(tǒng)中。這種堅(jiān)固的未鍍膜的光學(xué)表面對污染幾乎完全免疫,可以被多次清洗,能防止飛濺物接觸到中間窗口。這種中間窗口對于保護(hù)相對較昂貴的ZnS準(zhǔn)直透鏡來說是很有必要的。并且在此窗口的輸出側(cè)使用清潔氣流來預(yù)防煙塵和其他低速污染物。

  在不超過8千瓦的光纖激光功率情況下,這種“復(fù)合”光學(xué)設(shè)計(jì)的離焦量幾乎為零(~0.2 mm/kW)。出人意料的是,這與EWI所有的傳統(tǒng)傳輸聚焦設(shè)備測量的離焦量相反。這種現(xiàn)象被歸因?yàn)閭鬏敼鈱W(xué)組件的負(fù)離焦(“上方”)和未鍍膜銅反射鏡這一面的正離焦(“下方”)的結(jié)合而引起的。

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